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总投资9.3亿元,拓荆科技(上海)半导体先进工艺装备研发与产业化项目封顶

来源:大半导体产业网    2024-04-29
开发先进的ALD薄膜工艺技术及高产能设备平台,实现以临港为中心客户群所需半导体设备的产业化。

据上海地产闵虹集团官微消息,4月25日,拓荆科技(上海)半导体先进工艺装备研发与产业化项目主体钢结构全面完工,喜封金顶。

据悉,半导体先进工艺装备研发与产业化项目是由拓荆科技(上海)有限公司新建的研发及产业化基地,计划总投资9.3亿元。建筑面积约10万㎡,用于开发先进的ALD薄膜工艺技术及高产能设备平台,并实现以临港为中心客户群所需半导体设备的产业化。

拓荆上海曾表示,该项目建成后将更好满足临港客户产品定制化等需求,增强公司产品形成以临港为中心,形成覆盖上海及周边半导体客户厂商的产业形态。将以市场需求为导向,开展自主研发,突破核心技术,形成100%自主知识产权产品并实施产业化,为新片区集成电路产业发展贡献力量。

资料显示,拓荆科技(上海)有限公司成立于2020年12月,是拓荆科技股份有限公司在临港设立的全资子公司。主要从事高端集成电路薄膜装备的研发、生产与销售。公司聚焦半导体薄膜沉积设备,是国内专用量产型PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD设备领军企业。

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