据璞璘科技官微消息，近日，璞璘科技与深圳力策科技有限公司（以下简称“力策科技”）合作采用真空气压式纳米压印方案实现8英寸光芯片量产突破——依托璞璘科技自主研发的PL-AS真空气压式晶圆级纳米压印光刻设备，配合定制化双层压印胶材料体系与核心工艺，完全绕开深紫外（DUV）光刻路线，成功实现8英寸光芯片晶圆可规模化量产，并将芯片制造成本压缩至传统DUV方案的十分之一。

据了解，2025年8月，璞璘科技交付了中国首台半导体级步进式纳米压印光刻系统PL-SR。该设备采用喷墨步进式工艺，其定位主要是面向先进集成电路、硅基微显等领域的工艺开发。

本次交付的PL-AS则是半导体级真空气压式纳米压印光刻机，采用面接触压印原理，专为晶圆级全幅面量产打造，这使其更适合光芯片的大面积微纳结构复制，是一台可以直接替换产线中DUV光刻机的量产型装备。