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Tokyo Electron Limited 展出次世代刻蚀平台Episode™ UL

来源:大半导体产业网    2021-03-17
核心提示:Episode UL平台,可以灵活选择腔室数量,显著节省占地面积,易保养且智能化,极大提升客户晶圆厂的生产率。

展位号:N1-1401

TEL采用水平相对的腔室布置,在空间节省上,处于行业领先水平。 Episode UL可根据客户工厂布局,灵活调节4至12个腔室,最大程度地提升载荷能力。新平台采用最多12个腔室的配置,其水平相对设计极大减少了洁净室和公用设施区域内每个腔室的占地面积。与前代产品相比,Episode UL具有更大维护空间,可更轻松地进行维护保养。此外,Episode UL的传输系统和制程模块均配置大量传感器和高速控制系统,由TEL独创的智能工具进行大数据分析,从而实现自主过程控制。

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