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“万通道3D纳米激光直写光刻机”正式推出

来源:综合报道    2026-07-08
该设备可瞬间生成1万多个可独立控制的并行激光焦点,每个焦点能量可实现169阶以上的精细调节,配合研发团队开发的智能全局优化算法,可将焦点阵列的光强均匀度提升至95%以上。

自“玉之泉”官微获悉,日前,杭州玉之泉精密仪器有限公司(简称:玉之泉)联合浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室共同研发的“万通道3D纳米激光直写光刻机”正式推出。

长久以来,双光子激光直写技术因具备高分辨率、低热效应、无掩膜和真三维加工能力,一直是微纳加工领域的前沿研究方向。然而,双光子激光直写技术虽然拥有极高的加工精度,却受困于“单束扫描”的物理极限。

面对这一行业痛点乃至国家高端微纳制造的战略需求,浙大极端光学全国重点实验室科研团队与杭州玉之泉联合攻关,创新性地提出“万通道快速独立调控方案”。该设备可瞬间生成1万多个可独立控制的并行激光焦点,每个焦点能量可实现169阶以上的精细调节,配合研发团队开发的智能全局优化算法,可将焦点阵列的光强均匀度提升至95%以上,同时有效矫正光斑畸变,显著提高了多通道间的一致性与加工精度。

得益于上述技术突破,该设备展现出卓越性能:超高打印速率可达每秒2亿体素以上;在特定工艺下,最小特征尺寸可达亚50nm;2D面扫描速率达到40平方毫米/分钟,是传统技术的几十倍,且最大加工幅面可完整覆盖12英寸晶圆。

除了作为光子掩膜版、DOE掩膜版、MEMS掩膜版等高端掩膜微纳制造领域外,该设备还契合诸多偏定制、偏微纳三维结构、偏良率与快速迭代的工艺需求,包括光子芯片与先进封装: 支撑定制化、小批量的高精尖芯片研发;MEMS传感器与微流控器件: 可实现复杂三维微结构的快速成型;精密光学元件: 满足超透镜、DOE器件等光学防伪与光通信领域的严苛要求。

如果说“万通道”是微纳光刻利器,那么超表面(Metasurface)就是它最具优势的应用场景之一。作为未来AR/VR、激光雷达及6G通信的核心元件,超表面需要在基底上制备数以万计甚至上亿个形状各异的纳米柱。随着万通道技术逐步产业化落地,有望大幅压缩超表面加工周期,为其规模化量产提供核心设备支撑。

玉之泉成立于2022年12月,是一家致力于解决国家“卡脖子”光刻技术的高端光学精密仪器研发公司。公司总部位于中国杭州,创始股东由在光学研究领域深耕多年的资深科研工作者和企业管理经验丰富的企业家组成。