5月25日上午，青岛四方思锐智能技术有限公司（以下称：思锐智能）携手国家智能传感器创新中心签署战略合作协议，双方将进一步深化产业合作，共同探索开发行业市场。

（图左：青岛四方思锐智能技术有限公司总经理聂翔先生；图右：国家智能传感器创新中心副总裁焦继伟博士）

思锐智能成立于2018年，对标国家战略性新兴产业发展方向，面对半导体装备关键核心技术，全资收购了芬兰的BENEQ公司。BENEQ公司是已经有近40年ALD经验的公司，现在思锐智能以芬兰的BENEQ公司作为海外技术研发中心，同时组建了国内的技术中心和产业化中心，为客户提供领先、创新和灵活的ALD设备和解决方案，致力于成为世界领先的ALD设备和服务供应商。

国家智能传感器创新中心于2018年7月正式启动，当前以“企业+联盟”的模式运行。创新中心的定位和使命在于致力建设传感器关键共性技术的研发平台，包括服务产业链，实现研发供给、转移扩散和首次商业化，同时推进建设国内智能传感器创新体系，携手产业链上下游合作伙伴，建设完整的国内智能传感器应用生态链。

青岛四方思锐智能技术有限公司总经理聂翔先生表示，以上海为代表的长三角地区作为我国的半导体高地，也是思锐智能客户最集中的区域。国家智能传感器创新中心作为我国超越摩尔领域首屈一指的领导者，与国家智能传感器创新中心的全面战略合作也是思锐智能深化在半导体领域的布局，深化在超越摩尔领域布局的一个重要战略举措。“思锐智能将以面向半导体工业量产设备为基础，与国家智能传感器创新中心建立一个联合研发实验室，目前已完成工艺测试，已经开始全面投入使用。同时在国家智能传感器创新中心的大力支持之下，我们也建立了上海分公司，整体的办公室已经开始全面投入使用。” 聂翔先生说道，“未来双方将面向超摩尔领域，重点开展面向MEMS和CMOS图像传感器等重要领域的联合研发，以开放包容的机制为行业提供全面系统的技术解决方案。思锐智能也会以此次战略合作为契机，携芬兰子公司BENEQ继续深化本地化，推进ALD技术和设备的研发。”

国家智能传感器创新中心副总裁焦继伟博士指出：“国家智能传感器创新中心和思锐智能都青睐‘智能’两个字，都对超越摩尔产业情有独钟，双方就以ALD设备和技术作为起点和支点建立战略合作关系，未来在制造设备的国产化、本土化，包括半导体的新材料、MEMS新工艺和ALD的人工智能、互联网新应用等合作方面的成果值得期待。”据焦继伟博士介绍，思锐智能上海分公司8英寸工业量产ALD设备也进入了超越摩尔研发中试线，落户上海智能传感器产业园，双方的合作已经进入快速、顺利的推进过程中。

聂翔先生补充道，8寸线已经开始在创新中心进行使用，同时思锐智能已经获得欧洲、美国、日本和国内一些知名半导体厂商的订单并交付。另外，整个12寸设备将在今年年底推出，现在看来，欧美和大中华区有比较高的意向订单，下一步希望把Transform做成非常好的精品。

Transform系列设备可以提供面向超越摩尔、集成电路以及泛半导体一系列产品的解决方案，同时支持半导体行业标准。

与PVD和CVD对比，ALD技术可以使镀膜材料以单原子层的形式沉积在表面，得以在镀膜厚度的控制以及均匀性等方面有显著的优势，尤其适用于高深宽比的3D复杂材料的器件，是集成电路、超越摩尔应用，包括一些泛半导体和其他光学、锂电池等新兴领域的工业镀膜的关键技术。

可以说Transform平台是集热法ALD以及等离子增强型ALD所有功能于一体的设备，“市面上没有任何其他的ALD设备公司可以做到这一点。” 芬兰BENEQ专家在现场通过视频连线表示。其次，Transform平台生产效率非常高，加载了小型红外加热模块后，在10-15秒就可以实现晶圆的升温，极大缩短了工艺所需的加热时间，大大提升了产能。Transform平台专为晶圆厂进行生产和设计，适用于3-8寸的晶圆，现在12寸也在筹备中，而且通过了SEMI S2&S8的认证，完全支持SECS/GEM等半导体标准，可维护性也非常强。

Transform平台助力超摩尔市场的应用矩阵涵盖了方方面面，包括功率器件、滤波器、MEMS、CIS、Micro-OLED、Micro-LED和光电子等等。

针对氮化镓功率器件的解决方案，通过ALD技术能够增强高功能氮化镓的性能，包括通过ALD薄膜实现表现的钝化和覆盖；通过氧化铝叠层实现高K介电质的沉积；通过原位预处理去除自然氧化层，实现表面稳定以提高整个器件的性能；通过高质量的ALD氮化铝来实现缓冲层（当前还处于研发阶段）；通过低温ALD叠层来实现精密封装。

针对RF滤波器的解决方案中，不同的滤波器解决方案包括声表面波滤波器、温度补偿型、薄膜型声表面波的滤波器还有体声波的滤波器，ALD可以实现均匀的封装钝化阻挡层以及在trimming前后的保证。而且ALD通过钝化能够稳定氧化硅层的稳定性，也能够实现TC层的温度补偿。与此同时，ALD也可以通过调整它的谐振频率，调整机电耦合等等来实现创新，主要是通过ALD压力补偿以及散热层的沉积来实现。

CMOS图像传感器领域有着非常多的机遇和挑战，ALD在CMOS图像传感器领域扮演三大主要角色。ALD在钝化方面的优势能够提高整个光转化为信号的效率；ALD非常适用于抗反射和阻挡层镀膜的功能；ALD能够形成均匀的保形高质量薄膜，帮助这些光学器件的性能。

ALD还是Micro-LED的解决方案的理想选择。芬兰BENEQ专家介绍，首先第一个解决方案是通过ALD钝化提升Micro-LED的外量子效率EQE，实现更长的生命周期，降低漏电流，总体提升它的性能。第二个解决方案可以在分布式的布拉格反射器上利用ALD技术，如氧化钛的材料来提高光的提取，它能够实现卓越的光学性能，能够实现亚米级的厚度，而且保证厚度的均一性。

自2018年思锐智能收购BENEQ以来，将业务分为半导体装备与显示两大块，目前，思锐智能公司以BENEQ为整体海外研发中心，中国作为整个产业化中心，逐步开展整个ALD镀膜以及薄膜电致发光显示器的本地化技术研发工作。

聂翔介绍，思锐智能可以提供三方面的服务，一是开发服务，可提供一系列整套的研发服务解决方案，帮助客户实现首批样品批量生产；二是整体ALD的设备，思锐智能很多的设备应用于不同的领域、不同的场景；三是镀膜服务，思锐智能在欧洲的研发中心，包括即将建设的产业化中心都有超过70台ALD镀膜设备，完全可以做定制化的薄膜生产外包，小规模的试产或者是大规模的外包。