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总投资35亿元,清溢光电南海基地投产

来源:大半导体产业网    2025-11-18
佛山生产基地项目总投资35亿元,包括高精度掩膜版生产基地、高端半导体掩膜版生产基地。

据“南海发布”公众号消息,日前,深圳清溢光电股份有限公司(以下简称“清溢光电”)“平板显示及半导体用掩膜版”佛山生产基地项目投产仪式在南海区丹灶镇举行。

据悉,佛山生产基地项目总投资35亿元,包括高精度掩膜版生产基地、高端半导体掩膜版生产基地。

其中,高精度掩膜版生产基地建设项目主要生产8.6代及以下高精度FPD掩膜版,应用于a-Si、LTPS、AMOLED、LTPO、MicroLED等平板显示掩膜版产品,特别是应对AMOLED用高精度掩膜版的需求(含建设中的8.6代AMOLED),填补国内空白,实现高端掩膜版的国产化替代。项目建成投产后,可进一步提升高精度平板显示掩膜版国产化程度及配套水平。

高端半导体掩膜版生产基地建设项目是建设建设28—180nm的高端半导体掩模板,该项目将提升产品技术和工艺水平,扩充生产规模,促进公司可持续发展。与此同时,该项目能够实现更高节点的高端半导体掩膜版的开发及产业化,有望打破境外领先厂商的垄断格局,提高在半导体产业链领域的技术安全及自主可控能力。本月,清溢光电佛山高端半导体掩膜版生产基地已引入佛山第一台电子束光刻机。

清溢光电董事唐嘉盛表示,基地投产标志着清溢光电在掩膜版领域迈上新台阶,佛山基地将继续聚焦高世代面板及先进制程半导体掩膜版研发制造,成为公司新的增长引擎。