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美光HBM4因良率问题需重新设计

来源:大半导体产业网    2025-11-06
美光HBM4因良率问题需重新设计,主要原因是其产品仍难以满足英伟达对性能和功耗的要求。

11月6日消息,据Digitimes消息,由于产品良率问题,美光正着手重新设计HBM4,其供应时间或延迟至2027年。

美光HBM4因良率问题需重新设计,主要原因是其产品仍难以满足英伟达对性能和功耗的要求。