据芯上微装官微消息，11月25日，上海芯上微装科技股份有限公司（AMIES）宣布，公司自主研发的首台350nm步进光刻机（AST6200 ）正式完成出厂调试与验收，启程发往客户现场，标志着我国在高端半导体光刻设备领域再次实现关键突破。这不仅是一次产品的交付，更是国产半导体装备向高端化、自主化迈进的重要里程碑。

据介绍，AST6200光刻机是芯上微装基于多年光学系统设计、精密运动控制与半导体工艺理解积淀，倾力打造的高性能、高可靠性、全自主可控的步进式光刻设备，专为功率、射频、光电子及Micro LED等先进制造场景量身定制。可实现350nm高分辨率，正面套刻80nm，背面套刻500nm，还具备高产率设计、强工艺适应性、100%软件自主可控等核心亮点。