近日，上海芯上微装科技股份有限公司（AMIES，下称“芯上微装”）自主研发的350nm步进投影光刻机（AST6200）顺利通过国内化合物半导体领域头部客户的工艺验证，并斩获批量重复订单。

AST6200光刻机可广泛应用于功率器件、射频前端、光电子芯片及Micro LED新型显示等制程场景。

AST6200搭载高性能投影物镜与先进照明模式，稳定实现350nm高分辨率图形化能力，可覆盖Si、SiC、GaN、GaAs、InP、蓝宝石等多类衬底材料的光刻作业。其高精度对准系统确保多层图形之间精准套刻，显著提升器件良率。同时，通过采用高照度光源、高速基底传输系统及高动态运动台，显著提升单位时间产出，有效帮助客户降低单颗芯片的综合拥有成本（COO）。

设备创新调焦调平系统能够稳定测量透明、半透明、不透明及大台阶等多种基底，确保复杂衬底条件下的曝光质量。平边对准和背面对准模块可满足特殊基底晶向解理和键合片对位等复杂制程需求。设备支持从2英寸到8英寸多种规格基片，兼容平边、双平边、Notch等主流基底类型，为客户产线切换带来极大灵活性。

值得一提的是，AST6200光刻机搭载芯上微装自主研发的全栈式软件控制系统，从底层驱动到上层工艺管理实现100%自主可控。