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ASML EUV光刻机实现纳米孔全晶圆级制造

来源:大半导体产业网    2025-12-23
IMEC已成功利用阿斯麦最先进的极紫外光刻(EUV)设备,实现了纳米孔的全晶圆级制造。

据外媒报道,比利时微电子研究中心(IMEC)已成功利用阿斯麦最先进的极紫外光刻(EUV)设备,实现了纳米孔的全晶圆级制造。阿斯麦公司公关负责人将此称作其公司设备“一项出人意料的卓越生物医学应用”。

据了解,纳米孔是直径仅数纳米的微小孔道,基于分子与纳米孔相互作用原理可用于生物医学传感器,经该技术制备的纳米孔能实现对单个分子的检测与识别,调整尺寸还可拓展应用场景。现有纳米孔制备方法存在缺陷,而此次研究实现量产化、高精度与可重复性,有望解决纳米孔传感器技术落地难题。