近日，上海微电子装备(集团)股份有限公司（SMEE）携自主研发的新一代前道干式光刻机通用技术平台模型亮相第九届中国国际进口博览会，展示前道光刻装备自主化的阶段性成果。

本次展出的模型采用透明剖视设计，直观呈现整机光学光路与内部机电系统的链路布局。该平台为国产标准化前道光刻装备架构，适配I-line、KrF两类主流技术路线，整机核心的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统均实现全链条自主可控，具备稳定的工艺适配能力与产线运行可靠性。

目前国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当，套刻精度、生产效率紧密追赶国际标杆；多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行，累计支持产线流片超千万片，设备有效运行率超92%，形成自主技术可控、国产替代落地、产业链安全可靠的核心优势，可全面支撑半导体、泛半导体产业发展需求。

SMEE成立于2002年，是国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商，也是我国前道光刻装备自主供给体系的核心支撑主体，业务覆盖核心光刻装备的设计研发、生产制造、市场销售与全流程技术服务。