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SK海力士或携手东进半导体开展EUV光刻胶研发

来源:大半导体产业网    2025-12-10
SK海力士需要性能优于日本产品的材料,并特别要求改善光刻胶的光敏性,以提高生产效率。

据韩媒报道,SK海力士正与东进世美肯(Dongjin Semichem)合作,着手开发高性能EUV光刻胶,旨在实现这一半导体核心材料的国产化供应并降低对日本的依赖。

有消息人士称,SK海力士需要性能优于日本产品的材料,并特别要求改善光刻胶的光敏性(Sensitivity),以提高生产效率。

对此,SK海力士相关人士并未予以否认。SK海力士方面表示具体的开发内容无法公开,又补充称公司正在与包括材料商在内的多家企业持续合作,以改善生产效率。

据了解,SK海力士曾在2023年通过子公司SK Materials Performance实现了部分EUV光刻胶国产化,但仅限于低规格产品。