据中国光谷官微消息，近日，国内首条基于12寸40nm CMOS工艺线的全国产化硅光PDK（工艺设计套件）、TDK（测试设计套件）及ADK（封装设计套件）流片服务平台正式在光谷投用，该平台由国家信息光电子创新中心（NOEIC）建设运营，标志着光谷企业在硅光领域实现又一关键突破。

据悉，该平台创新构建硅光MPW服务模式，通过将多个芯片设计集成于同一晶圆流片，实现成本分摊，大幅降低研发门槛。平台基于40nm制程的硅光PDK1.0性能总体达到商用要求，其加工精度、波导损耗、光耦合效率等指标达国际先进水平。除了PDK外，平台还集成了TDK和ADK，可提供芯片从集成设计到封装验证的全流程支撑，可满足科研成果转化和产品研制中的快速迭代需求，助力项目加速落地。

据了解，国家信息光电子创新中心2018年在光谷揭牌，承载解决我国信息光电子制造业关键共性技术协同研发和首次商业化应用的战略任务。7年多来，它已服务支撑300余家单位，完成800多次订单，并突破了1.6T硅光互连芯片、2T芯粒、145GHz强度调制器等关键技术。

国家信息光电子创新中心硅光芯片加工场景