据韩国《每日经济新闻》近日引述产业消息报道,三星电子将利用其位于美国得克萨斯州泰勒市的第二座晶圆代工厂,为AMD和英伟达生产高带宽内存(HBM)芯片的基础裸片。
该工厂预计将于本月正式动工,且全部产能已获得订单,其中大部分订单来自AMD。
报道指出,该工厂将采用先进的2纳米制程技术,厂区面积约270万平方英尺,规模约为三星首座工厂的1.5倍。三星首座工厂已与特斯拉签订合同。
据悉,第二座工厂预计将于2029年2月开始安装设备,并于2030年启动量产。
三星电子对此婉拒置评。
据韩国《每日经济新闻》近日引述产业消息报道,三星电子将利用其位于美国得克萨斯州泰勒市的第二座晶圆代工厂,为AMD和英伟达生产高带宽内存(HBM)芯片的基础裸片。
该工厂预计将于本月正式动工,且全部产能已获得订单,其中大部分订单来自AMD。
报道指出,该工厂将采用先进的2纳米制程技术,厂区面积约270万平方英尺,规模约为三星首座工厂的1.5倍。三星首座工厂已与特斯拉签订合同。
据悉,第二座工厂预计将于2029年2月开始安装设备,并于2030年启动量产。
三星电子对此婉拒置评。