据东方晶源官微消息，近日，东方晶源宣布PanGen DMC完成验证。

据介绍，东方晶源基于坚实的计算光刻平台PanGen®和丰富的产业实践经验，创新性的开发了PanGen DMC®（Design Manufacturability Check）产品，其内嵌D2C（Design To Contour）快速光刻反馈引擎，能够将FAB全套OPC Recipe解决方案以AI模型的方式进行打包，从而使用户可以基于原始Design快速、精准估计该Design最终硅片上的形貌（Contour），进而提前预知设计版图存在的潜在风险。

（图源：东方晶源）

在国内某先进节点FAB内实测结果表明，东方晶源PanGen DMC®在全芯片尺度上预测结果与实际的差距在超过99%的版图位置上小于1nm，证明其搭载的D2C快速光刻反馈引擎能够准确的捕捉整套OPC Recipe的行为，给出和完整OPC Recipe非常接近的Contour结果。

此外，PanGen DMC®可以预估设计版图最终的光刻形貌，通过提前使用FAB光刻签核的方式来提供给工艺端直接的反馈。在国内某先进节点FAB内实测结果表明，针对Design上的严重缺陷，DMC能在其送入OPC之前提前预判，Capture Ratio超过90%。