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EUV光刻的今天与未来

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出自： IMEC

地点：

简述：

2008年的ITRS Roadmap中，EUV将是22nm的主导技术。全球首台EUV设备自2年前进入IMEC后，创新的研究成果不断，为EUV的商业化作出了巨大贡献。这里记载了IMEC在EUV研发过程中的主要成果与突破。

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