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Entegris EUV 1010光罩盒展现极低的缺陷率,已获ASML认证
出自:大半导体产业网

使利用EUV光刻技术进行先进技术制程量产成为可能

Entegris(纳斯达克:ENTG)日前发布了下一代EUV 1010光罩盒,用于以极紫外(EUV)光刻技术进行大批量IC制造。Entegris的EUV 1010是与全球最大的芯片制造设备制造商之一的ASML密切合作而开发的,已在全球率先获得ASML的认证,用于NXE:3400B等产品。 

随着半导体行业开始更多地使用EUV光刻技术进行先进技术制程的大批量制造(HVM),对EUV光罩无缺陷的要求比以往任何时候都要严格。Entegris的EUV 1010光罩盒已经过ASML的全面认证,可用于他们的最新一代光刻机,并展现了出色的EUV光罩保护性能,包括解决最关键的微粒污染挑战。Entegris的EUV 1010也因此让客户能够安全地过渡到最先进的光刻工艺所需的越来越小的线宽。

为了在NXE:3400B光刻机中实现上述性能,Entegris开发了用于接触光罩和控制环境的新技术。Entegris晶圆和光罩处理副总裁Paul Magoon表示:“Entegris EUV 1010代表了缺陷率改进方面的重大突破,得益于此,先进技术制程HVM的客户可以专注于提高效率和产量。与ASML的共同开发和测试确保了EUV 1010符合最先进的EUV光刻机的要求。”

 

 

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文章收入时间: 2018-08-20
 
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