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ASML 第一季营收表现强劲,全年前景乐观
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出自:大半导体产业网

EUV 导入芯片量产阶段,订单持续涌入

全球半导体微影技术领导厂商艾司摩尔 (ASML) 今日公布 2018 第一季财报。ASML 第一季营 收净额 (net sales) 22.9 亿欧元,净收入 5.4 亿欧元,毛利率 (gross margin) 48.7%。预估 2018 第二季营收净额 (net sales) 将落在 25~26 亿欧元之间,毛利率 (gross margin) 约为 43%,反映 EUV 营收将大幅增加。

ASML
总裁暨执行长温彼得 (Peter Wennink) 表示 : 「第一季业绩表现强劲,超出预期,主要 来自于大量出货,以及客户对于深紫外光(DUV)微影系统和全方位微影方案(Holistic Litho) 需求。在 EUV 方面,本季我们共完成 3 EUV 系统的出货,而另 1 台则正准备出货。我们 在第一季获得 9 NXE:3400B 的订单,也确认 EUV 业务持续成长。近来不同客户都公开讨 论将于今年底前将采用 EUV 进行芯片量产。因此,我们计划在 2018 年完成 20 EUV 系统 出货,并在 2019 年将 EUV 出货量拉升到 30 台以上,全力协助客户达成其量产目标。此外, 关于下一代 High-NA (高数值孔径) EUV 产品,我们也开始从三个主要客户方面接到 4 台订 单,并售出 8 High-NA EUV 系统的优先购买权 (options)。」

High-NA
EUV 微影技术的延伸,其分辨率(resolution)和微影迭对(overlay)能力比现行 EUV 系统提升 70%,能够实现业界未来对于几何式芯片微缩(geometric chip scaling) 的要求。

「这是一个好的开始,我们也乐观预期 2018 ASML 将在业绩和获利能力上持续稳健成 长,」温彼得说。

第一季产品重点摘要
深紫外光 (DUV)微影 : 我们最新的 NXT 机台已经达到每天曝光 6,000 片晶圆的产能里程 碑,支持客户量产需求。

全方位微影方案 (Holistic Lithography) : 本季已完成采用多重电子束技术 (multiple e- beam) 的图案缺陷量测(pattern fidelity metrology)系统 — ePfm5 出货。该系统是 ASML 收购汉微科后共同研发的产品,具备更高的分辨率以检测系统缺陷。这项创新的电子束量 测系统和 ASML 的表达式微影(Computational Lithography)软件结合,能够在实际制造芯片的过程中,实时提供电子束的反馈给微影系统。ASML 也已经证实多重电子束能够进一 步提升电子束量测的产能,应用于量产阶段。

极紫外光(EUV)微影 : 吞吐量(throughput)持续提升,在一个客户端的测试中,达到每小时 曝光 125 片晶圆的量产里程碑,同时在 ASML 的实验室中展现每小时曝光 140 片晶圆的 实力。 展望 2018 年第二季,ASML 预估整体销售净额可达 25~26 亿欧元,毛利率约落在 43%,反 EUV 业务的强劲成长。研发投资金额提高到 3.75 亿欧元,而管销费用 (SG&A) 支出则约 1.15 亿欧元,目标年化税率约 14%



(1) 2018 1 1 日起,ASML 开始采用新的营收认列准则(ASC 606)和租赁准则(ASC 842). 以上第四季的数字尚未调整以在会计准则下反映这些改变
(2)
累积装机管理(Installed Base Management)销售额等于净服务和升级方案(field option)销售额的加总
(3)
订单金额不包括新一代 High-NA EUV 订单
A complete summary of US GAAP Consolidated Statements of Operations is published on www.asml.com


配息(Dividend)及新一波股票回购(Share Buyback)计划
ASML
已向董事会提出配息方案建议,每股配息 1.4 欧元 (总计 6 亿欧元),并谨订于 4 25 日召开年度股东会。2016 年的配息为每股 1.2 欧元。 ASML 2018 一月宣布划继续透过股息配发和股票回购计划将现金回馈给股东。在股票回 购部份,ASML 计划在 2018-2019 年收购以 25 亿欧元为上限的股票。这些收购的股票中,最多有 240 万股将被用于员工认股计划,其余将被注销。截至 2018 4 1 日,ASML 已经收 100 万股,约价值 1.7 亿欧元。

 

 

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文章收入时间: 2018-04-23
 
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